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“半导体晶片高清洁度处理的解决方案”之“超声波清洗机”

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半导体晶片的清洗是产品出厂前最后也是最重要的步骤。生产出来的半导体晶片经过高清洁度清洗以后，进行最终全面的检验以保证产品最终达到规定的尺寸、形状、表面光洁度、平整度等技术指标。因此，作为半导体晶片生产企业，需要一种高效的清洗方案来解决生产中的难题。

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。超声波清洗的运用极大地提高了工作效率和清洗效果，技术更加先进，效果更加显著，逐渐成为各半导体晶片生产厂家首选方案。

系列产品列表：
产品名称	简介	定货号
超声波清洗机	加热和定时功能用LED液晶显示；自动开始温度控制/温度预设；壳体有不锈钢材料制成；高性能的换能器系统；自动除气系统快速除气；清扫性能加强清洗效果。